搪玻璃設備的靜電點(diǎn)蝕分析
搪玻璃設備主要用于工業(yè)領(lǐng)域，使用為廣泛的就是反應釜和反應罐類(lèi)設備，在反應罐等搪玻璃設備工作之后進(jìn)行清理時(shí)經(jīng)常會(huì )發(fā)現設備內壁有多微小的凹點(diǎn)，這些大大小小的凹點(diǎn)是什么原因造成的？是物料在反應過(guò)程中對玻璃釉質(zhì)層產(chǎn)生了腐蝕嗎？
如果是物料具有腐蝕性，又或者在反應過(guò)程中有對玻璃釉質(zhì)腐蝕作用的物質(zhì)產(chǎn)生只會(huì )造成面積性腐蝕，而并非是大小不一的凹點(diǎn)。所以物料化學(xué)性造成的腐蝕基本可以排除。那究竟是什么原因？
經(jīng)過(guò)查閱資料發(fā)現，在許多搪玻璃設備中會(huì )發(fā)生一種名為靜電穿刺的效應，會(huì )導致釉質(zhì)出現一個(gè)個(gè)小凹坑。當設備內部的反應物屬于帶有懸浮物的液體時(shí)，懸浮物會(huì )與搪玻璃設備玻璃釉質(zhì)層內壁發(fā)生劇烈摩擦，同時(shí)物料自身也在發(fā)生摩擦，我們知道摩擦可以帶來(lái)大量電荷，當這些電荷隨著(zhù)反應的進(jìn)行越來(lái)越多且不斷聚集，終于形成了相對高壓靜電荷，這種靜電荷對搪玻璃層產(chǎn)生強烈的穿刺作用，也就是點(diǎn)蝕作用。
這種靜電穿刺造成的點(diǎn)蝕對設備的損壞會(huì )隨著(zhù)時(shí)間的積累逐步加深，如果不及時(shí)采取有效地措施，那么搪玻璃設備快就會(huì )因高度點(diǎn)蝕而報廢。
靜電點(diǎn)蝕的原因在于大量靜電荷的聚集，而靜電荷則是由劇烈摩擦所產(chǎn)生的，所以想要減輕這種點(diǎn)蝕現象簡(jiǎn)單而又有效地方法就是降低搪玻璃設備攪拌器的攪拌速度，減小摩擦，電荷自然減少，而少量的電荷對搪玻璃層的損害是有限的。
